中国自研DUV光刻机量产消息引发半导体设备股集体重挫

　　据外媒报道，市场传闻中国已开始量产自主研发的浸润式深紫外（DUV）光刻设备，引发投资者对荷兰阿斯麦（ASML）在华长期增长前景的担忧。受此影响，ASML股价27日大跌逾8%，带动全球半导体设备板块全面下挫。

　　报道称，一家未具名的中国国资背景企业已启动DUV光刻机生产，计划今年交付5台，明年将产能提升至20台。尽管相关设备在性能和可靠性方面仍落后于国际先进水平，尚需进一步测试，但长期来看可能对ASML在中国市场的地位构成挑战。由于美国出口管制限制中国获取极紫外（EUV）光刻机，DUV设备已成为中国芯片制造商目前能获得的最先进光刻工具。在美国考虑进一步收紧对华DUV出口及维修服务限制的背景下，中国加速自研芯片制造设备，有望为国内厂商提供更多本土供应选择。据悉，中国也在积极研发国产EUV设备，但目前仍处于原型机阶段。

　　消息发酵后，芯片设备类股票遭遇重挫。除ASML外，荷兰ASM国际和BE半导体分别下跌7.1%和9.7%;美国应用材料、科林研发和科磊等设备商股价也大幅走低，费城半导体指数跌幅逾2%。